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負占空比對鈦合金微弧氧化膜層的影響
恒壓模式下，利用自制的多功能微弧氧化設備在Na2SiO3—Na3PO4—NaOH電解液體系中制備了鈦合金陶瓷膜，低電壓微弧氧化技術，采用掃描電鏡、X射線衍射儀等考察了負占空比(dc)對鈦合金微弧氧化膜厚度、表面形貌、硬度、相組成及耐蝕性的影響。結果表明：隨著dc的增加，微弧氧化技術，膜層厚度減小；膜層表面呈典型的多孔陶瓷結構，隨dc的增大，膜層表面微孔數量減少，孔徑增大且有裂紋產生；膜層相組成主要為Ti、金紅石及銳鈦礦TiO2，在dc=45%時基體衍射峰消失。相對基體而言，膜層的硬度及耐蝕性都具有較大的提高；隨dc增加，膜層硬度增強，耐蝕性有一定程度的減弱。
微弧氧化材料表面陶瓷化機理
微弧氧化是一種在高電壓、大電流下對金屬材料進行表面處理的技術。由于采用了較高的電壓(大于250 V)，在微弧氧化處理過程中，PEO技術微弧氧化，可在樣品材料表面觀察到光斑(弧光)現象。光斑十分細小，密度很大，且無固定位置。這種細小的光斑意味著在樣品材料表面形成了大量的等離子體微區，在微區內瞬間溫度可達2500℃以上，壓力可達數百個大氣壓，為上面提到的一系列化學、物理反應的進行創造了條件。利用這一環境可在材料表面生成具有一定厚度、致密的陶瓷氧化層，可用來改善材料自身的防腐、耐磨和電絕緣等特性。
微弧氧化工藝流程
1、預處理
預處理的原因是由于鋁、鐵等合金長時間放置在空氣中，表面易發生氧化，生成一層幾個微米的鈍化膜，同時，其表面又極易吸附周圍環境中的雜質，形成表面吸附層。為保證微弧氧化后制得陶瓷膜的綜合力學性能，在微弧氧化處理前要對試樣表面進行預處理。
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第7年
